製品紹介

表面改質装置

常に新しい技術を追求し、
より高いレベルの製品づくりに
努めています。

CVDプロセス

CVDプロセス
CVDプロセス

CVDはChemical Vapor Depositionの略称です(気相からの化学蒸着)。このプロセスでは、ガス混合物が高温においてコーティングされる品物の表面上を流れます。品物の表面とガスが化学反応によって蒸着する為、それによって緻密で、層厚の均一なすばらしい密着性をもった層がその品物の表面に析出します。

仕様及び寸法

装置形式 1H-1L 1H-1 1H-1S
コーティングチャンバーの有効作業寸法 φ490×950mm φ360×900mm φ250×500mm
コーティング温度 750~1050°C(コーティング形式により異なる)
蒸着速度 3μm/h(コーティング形式により異なる)
単層もしくは多層形式 TiC, TiC+TiCN+TiN
電力供給 220V 50/60Hz/cps
電力消費量 135kw 50kwφ 30kw

アクティブスクリーンプラズマ窒化装置

アクティブスクリーンプラズマ窒化装置
アクティブスクリーンプラズマ窒化装置

グロー放電を炉壁とスクリーン間で起こし、スクリーンからの熱輻射で材料温度を上昇させるとともに、スクリーンを通過した反応活性種により表面改質処理を行います。処理品表面でのグロー放電を発生させないことから、材料形状に起因する改質不均一(エッジ効果、ホローカソード効果)の回避が可能です。

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